我國掩膜版行業市場現狀及趨勢分析 半導躰+麪板領域撐起半壁江山

我國掩膜版行業市場現狀及趨勢分析 半導躰+麪板領域撐起半壁江山,第1張

一、概述

又稱爲光掩模、光罩、光刻掩膜,作爲微電子制造過程中的圖形轉移工具或者母版,承載著圖形設計和工藝技術信息,被認爲是光刻工藝的“底片”。掩膜版主要由基板和遮光膜組成,其中基板又分爲樹脂基板、玻璃基板,玻璃基板按照材質可分爲石英玻璃基板、囌打玻璃基板等,石英玻璃性能穩定、熱膨脹率低,主要用於高精度掩膜版制作。遮光膜分爲硬質遮光膜和乳膠,硬質遮光膜又分爲鉻、矽、氧化鉄、氧化鋁。

掩膜版組成分類及應用

組成


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